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Aperçu Produitsfour à muffle sous vide

Sénétation du four à muffle sous vide électrique de recuit dans le traitement thermique de laboratoire

Examens de client
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—— Académie chinoise des sciences

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Sénétation du four à muffle sous vide électrique de recuit dans le traitement thermique de laboratoire

Sintering Annealing Electric Vacuum Muffle Furnace In Laboratory Heat Treatment
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Image Grand :  Sénétation du four à muffle sous vide électrique de recuit dans le traitement thermique de laboratoire

Détails sur le produit:
Place of Origin: China
Nom de marque: Chitherm
Model Number: HTF2550-07
Conditions de paiement et expédition:
Minimum Order Quantity: 1
Prix: negotiable
Packaging Details: Customized
Delivery Time: Customized
Payment Terms: Customized
Supply Ability: Customized

Sénétation du four à muffle sous vide électrique de recuit dans le traitement thermique de laboratoire

description de
Range of Applications: Industrial Type: Electric Holding Furnace
Usage: Steel Molding Fuel: Electric
Atmosphere: Vacuum Effective Dimensions: Ø250*500mm
Max vacuum Level: 5×10-4PA Transport Package: Wooden Packaging
Specification: 1200mm*1700mm*2200mm(W*H*D) Trademark: Chitherm
Origin: China HS Code: 8514101000
Production Capacity: 50 Sets/Year
Mettre en évidence:

réchauffement Fourniture à muffle sous vide

,

fourneau à muffle sous vide pour le frittage

,

laboratoire de recuit de four à muffle

Chitherm Htf2550-07 four à traitement thermique sous vide avec un niveau de vide maximal de 5 fois
Chitherm Htf2550-07 Vacuum Heat Treatment Furnace
Hefei CHITHERM Equipment Co., Ltd. est un fournisseur d'équipements avancés spécialisé dans la R&D, la conception, la fabrication, les ventes,entretien et maintenance de fours de traitement thermique industriel et de fours expérimentaux.

Nos produits comprennent le four à cloche, le séchoir à air chaud, le four à boîte, le four à tubes, le four à vide, le four à chariot, le four rotatif, le four à bande maillée, le four à plaques de poussée, etc. , qui sont largement utilisés dans la céramique avancée, les composants électroniques, le circuit à film épais, la fabrication additive, la métallurgie des poudres, la nouvelle énergie, la photovoltaïque et d'autres domaines.

Il convient pour le traitement thermique de la cible ITO, MLCC / HTCC / LTCC, filtre céramique, matériau magnétique, CIM / MIM, électrode positive et négative de la batterie au lithium,ainsi que la préchauffageLes procédés suivants sont utilisés: déchargement, dégraissage, cuisson, séchage, traitement thermique, durcissement, métallisation céramique et autres procédés de divers nouveaux matériaux.

Applications typiques:

Le processus de frittage et de recuit de composants électroniques, de plaquettes semi-conducteurs et d'autres matériaux connexes dans un environnement sous vide.

Caractéristiques des paramètres:

1Température nominale: 500 oC
2Température maximale: 700 oC
3Matériau du tube: Silice fusionnée
4- Dimensions effectives: Ø250 × 500 mm (D × H);
5. Uniformité de température: ± 2 oC
6Zones tempérées: 3 zones
7. Longueur de la zone température: 300+300+300 mm
8Puissance thermique: 24 kW
9Puissance d'isolation: < 8 kW
10. Vitesse de chauffage: < 15oC/min
11. thermocouple:type K
12. étapes du processus: 9 étapes
13Le niveau de vide maximal: 5 × 10- 4Je suis désolée.
14Niveau de vide de travail: 1 × 10- 3Je suis désolée.
15. Vitesse sous vide: < 60 min (jusqu'à 5 × 10- 4Je vous en prie.
16- Alarmes: sur la température, le niveau de vide, la pression de l'air du gaz, la surcharge du moteur et les lignes électriques inversées, etc.
17. Dimensions du four: 1200 mm × 1700 mm × 2200 mm ((W × H × D)

 

Coordonnées
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

Personne à contacter: zang

Téléphone: 18010872860

Télécopieur: 86-0551-62576378

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